有关模糊控制

最近有一个任务是写一篇关于离子源控制的专利，领导希望我从整体的离子源写。然后阅读了一下《ECR离子源主要参数对离子束流影响的研究》这篇论文，大概对影响离子源的两个参数有所理解，一个是微波功率，一个是腔体的真空度，当然其他的影响因素还是有的，但是这两个起主要作用吧。 然后我想把整个系统看做一个黑箱，因为离子源点火以及束流稳定的影响因素很多，所以用模糊控制不用建立系统的数学模型，还是很方便的。 首先，

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