光刻技术加工

光刻过程的典型步骤是匀胶，盖上掩模板，光刻，显影，制备微米级或纳米级的图形。 光掩模 目前光刻图形化使用的掩模版常为均胶铬板，即在高洁净度、平整度的玻璃(苏打玻璃或石英玻璃)上镀铬金术，覆盖一层防反射物质(Anti-Reflective，AR)，最后涂一层感光胶制备而成。 光刻胶(光阻) 光刻胶也叫光阻聚合物，像胶水一样粘稠。和相机的底片感光一样，在受到照射后会发生变化，非化学放大型光刻胶分为正胶

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