EUV光刻机全球出货量达57台

来源：内容编译自「semiwiki」，谢谢。 IMEC是推动半导体技术前进的主要组织之一，日前，他们举办了一场线上论坛，谈及了对芯片现状和未来的看法。在演讲中，ASML总裁则对光刻的发展进行了演讲。从他的PPT中可以看到，浸入式光刻在过去九年中增长了两倍。 而ASML计划提高所有曝光工具每小时的晶圆数量。 与此同时， 他指出，EUV继续为ASML的客户提高产量，迄今为止，他们的客户已经使用EUV光

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