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半导体材料复习
时间 2021-01-12
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半导体材料复习 半导体的主要特性 第一章 硅和锗的化学制备 高纯硅的制备 粗硅的制备 高纯多晶硅的化学制备 半导体的主要特性 电阻率:10-3~109 Ω \Omega Ω·cm 负温度系数:T升高,电阻率减小 具有高热电势 整流效应 光敏特性 掺杂可以提高导电能力 第一章 硅和锗的化学制备 高纯硅的制备 先由硅石(二氧化硅)制得工业硅(粗硅——纯度低、杂质多),再制成高纯多晶硅,经拉制得到单晶硅
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