氧化计算、掺杂计算

2-4、薄膜制作工艺有哪几种？每种薄膜工艺的特点及适应范围？ 蒸发 特点： 在真空室中把金属加热到高温（一般高于1000°C），形成金属蒸汽，在基片表面淀积形成金属薄膜 适应范围： 电阻加热蒸发镀膜：适合铝,金,铬等易熔金属 电子束蒸发镀膜：适合于难熔金属，局部温度可达3000°C，污染小，应用广。 溅射（sputtering） 特点: 在低真空的溅射室内，通入稀有气体，如：惰性气体Ar。稀有气体

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