精密光学测量4-光栅曝光

利用埃洛镜实现光的干涉 干涉现象是波动性的体现， 平行光出射的光一部分入射到屏上，一部分通过反射镜反射后入射到屏幕上，由于光是相干光，所以会发生干涉。产生的干涉条纹间距在光栅上主要表现为光栅常数。条纹间距g = λ/sinθ，通过调节光的角度，可以控制曝光出来的光栅常数。 曝光 将光栅基片固定到埃洛镜上面，让平行光照射到装有基片的埃洛镜上，控制曝光时间，大约经过30-100秒左右后，关闭激光。光刻

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