提高光刻精度的方法

摘要 在过去的二十年，伴随着微电子技术的发展，以Intel、Nvidia、三星电子和比特大陆为代表的芯片巨头风光无两。芯片性能的突飞猛进离不开光刻精度一次又一次地突破技术极限。借助于光学近似修正、亚分辨率辅助特征增强和移相掩膜技术，光刻线宽迈入亚微米领域。离轴照明和先进光刻工艺的组合使得光刻精度接近瑞利衍射极限。同时，通过技巧把低分辨率设备进行改进远远比直接安装高分辨率设备要省钱和迅速。对光刻过程

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